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在使用純凈水處理設(shè)備時(shí)應(yīng)如何保護(hù)設(shè)備
來(lái)源：m.guiyuejszp.cn 發(fā)布時(shí)間：2021年01月25日
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1.底壓清洗
準(zhǔn)時(shí)對(duì)純水設(shè)備ro設(shè)備展開(kāi)大總流量、低工作壓力、低ph值的清洗有益于剝除粘附在ro膜表層上的污漬,堅(jiān)持膜特性,或當(dāng)漏水忽然上升超出5.5左右時(shí),應(yīng)展開(kāi)底壓清洗,待sdi值調(diào)為及格后再啟動(dòng)。
2.停開(kāi)保護(hù)
由于生產(chǎn)制作的起伏,純水設(shè)備ro設(shè)備難以避免地要常常停開(kāi),ro短期內(nèi)或長(zhǎng)時(shí)間性停止使用時(shí)選用保證措施,不適度坐落答理形成膜特性下降且不能修正。短期內(nèi)儲(chǔ)存適用停開(kāi)15d下列的ro系統(tǒng)軟件,可選用每1～3d底壓清洗的方法 來(lái)保護(hù)ro設(shè)備。實(shí)踐活動(dòng)發(fā)覺(jué),溫度20℃左右時(shí),ro設(shè)備中的水儲(chǔ)放3d就會(huì)發(fā)出臭味霉變,有許多病菌繁育。
3.化學(xué)處理
在正常運(yùn)作規(guī)范下,純水設(shè)備ro反滲透膜也將會(huì)被無(wú)機(jī)化合物垢、膠體溶液、微生物菌種、氫氧化物等環(huán)境污染,這種化學(xué)物質(zhì)堆積在膜表層上面形成反滲透裝置負(fù)荷率下降或水的電導(dǎo)率下降、壓力差上升,乃至對(duì)膜導(dǎo)致不能修正的危害,因而,以便修正透水性和除鹽特性,對(duì)膜展開(kāi)化學(xué)水處理。
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